SKハイニックスがEUV技術強化へ 新材料PSM導入を推進
SKハイニックスは、次世代DRAMの量産に向けて極端紫外線リソグラフィーEUV技術の高度化を進めています。同社は昨年、高NA EUV装置を初めて導入し、今年から関連技術の研究開発を本格化しています。今回、新たに相移マスクPSMなどの先端材料の導入を全面的に進めていることが明らかになりました。PSMはEUV露光の精度向上に重要な材料で、微細化が進む次世代半導体製造での活用が期待されています。SKハイニックスはEUV工程の競争力を高め、AI向け高性能メモリ市場での優位性確保を目指しています。